美籍华人科学家获美国最高技术奖章
- 发布时间：2015-12-24 01:30:33 来源：科技日报 责任编辑：罗伯特
新华社旧金山12月22日电 美国白宫22日公布了2015年度美国最高科技奖项获得者名单，包括9名国家科学奖获得者和8名国家技术和创新奖获得者。美籍华人科学家胡正明是国家技术和创新奖获得者之一。
胡正明等17位获奖者明年将在白宫出席颁奖仪式。
胡正明是加利福尼亚大学伯克利分校电气工程和计算机科学教授，1997年当选美国国家工程院院士，本月早些时候当选美国国家发明家科学院院士。
他1947年在北京出生，先后在中国台湾和美国的高校就读，是微电子微型化和可靠性领域的主要开拓者。加州大学伯克利分校在获奖消息中称，胡正明教授的主要贡献是由他发明的鳍式场效晶体管（FinFET）。
美国国家技术和创新奖1980年立法设立，由美国联邦政府商务部下属专利商标局管理。一个独立委员会负责向美国总统提名获奖人，表彰那些为提供美国竞争能力、国民生活品质和劳动力技术素质作出持久贡献的人士。
美国国家科学奖是美国科学界最高荣誉，1959年设立，由美国国家科学基金会管理，由另一个独立委员会向总统提名，表彰在化学、工程、计算、数学、生物、行为和社会以及其他自然科学领域作出杰出贡献的人士。
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